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济南力冠电子科技有限公司

发布时间:2019-10-30 13:38
 

济南力冠电子科技有限公司

JINAN LIGUAN ELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD.

中国(含港澳台) | 

光学生产技术

航天/航空 | 高等院校 | 电气工程/电子/半导体

http://www.liguanchina.com/

公司简介

济南力冠电子科技有限公司是集开发、生产、销售为一体的专业设备制造商,公司主导产品有:晶体生长设备,半导体技术专用工艺设备,电子元器件专用工艺设备,太阳能电池片工艺专用设备,磁性材料工艺设备,航空航天及国家军工单位专用的工艺设备及其他非标定制等上百种高端设备。
目前公司产品广泛应用于科研院所,高校,IC产业,军工企业等。公司客户群体涵盖了国内多家知名高校和科研院所、国内知名企业。我们的产品还被应用在神州飞船系列,气象风云卫星系列、国家军事装备及国家863计划等重大科技攻关项目中。
  公司技术力量雄厚,具有自主研发、设计和生产各种产品的能力,可根据用户的不同需求进行设计和开发,并且具备改造、装备国外设备的能力。公司既可提供微细加工生产过程的全套设备,又可独立提供其中的单一设备,还可进行这些设备的各种工艺实验。
  力冠科技将始终坚持“科技创新、诚信共赢。质量是力冠的生命,提高质量永无止境”的经营理念,保持诚信本色,坚持不断创新,时时刻刻把客户的需求放在首位,做有活力、有潜力、有创新、有能力的高端装备供应商和新材料制备工艺服务商,为行业发展做出应有的贡献。

PVT法晶体生长炉

本设备主要用于氮化铝晶体的生长工艺

本设备是在惰性气体(氩气)环境中,采用高温加热,使原材料在高温融化

各操作参数可通过显示屏控制

本设备具有各种连锁及安全保护措施,如水温报警、过流报警等

晶体提拉炉

全自动等径提拉单晶炉是直拉法晶体生长专用设备,可实现在高压、真空和保护气氛下直拉生长晶体

可生长LN、LT、YAG、LYSO、GGG、BGO、YCOB、SAPPHIRE、氟化物晶体

采用自动称重结构,在保证晶体品质的前提下实现了直拉晶体的自动生长过程

可在真空、大气、充入氧及惰性气体及可控的局部压力状态下运行

氧化扩散炉

设备应用于集成电路、分立器件、光电子器件、电力电子器件

适用2~8英寸硅片的扩散、氧化、退火、合金等工艺

MOCVD设备

本系统是应用于化合物半导体-LED/半导体照明等科研领域、用于生长2~4英寸的Ⅲ-Ⅴ族氮化物、砷化物等的外延片的设备。

化学气相沉积设备(LPCVD)

化学气相沉积设备是半导体集成电路制造的重要工序之一,主要用于Si3N4、SiO2、Poly-Si、PSG、BPSG、非晶硅薄膜的生长。它是将原材料气体(或者液态源气化TEOS)热能激活发生化学应用而在基片表面生成固体薄膜。低压化学气相沉积是在低压下进行的,由于气压低,气体分子平均自由程大,使生长的薄膜均匀性好,而且基片可以竖放故装片量大,适合于工业化生产。

 

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