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纳米级三维激光直写设备

发布时间:2019-10-31 10:00


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技术设备





RESEARCH QUIPMENT SERIES

纳米级三维激光直写设备



由魔技纳米创新研发的拥有自主知识产权的商用纳米级三维激光直写设备,能同时兼顾高精度和高自由度,实现在纳米级精度上三维结构的自由设计,具有高速度、超分辨、大范围、无限视场等技术优势。

 

加工线宽(nm):>60

单结构成型尺寸(μm):<300*300*300

加工幅面(mm):<150*150

加工高度(mm):<2.5

重复定位精度(μm):>0.001

线性速度(mm/s):<30

设备额定功率(kW):1.2

表面平滑度Ra(nm):<1

扩展特性:2.5维衍射光学元件高速算法加工、平面图案一次成型、自动对焦、独立二十五光路同时加                   工、大幅面自动成像、10轴飞行联动。

可选材料:金属、高分子聚合物、类陶瓷材料、量子应用材料、高荧光度材料等数十种。

 

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