苏大维格牵头光刻机关键技术国家重大仪器专项通过验收

7月23日，苏大维格科技集团股份有限公司(以下简称“苏大维格”)发布公告，公司于近日收到由国家科学技术部下发的验收文件【国科资函[2019]14号】，公司牵头的国家重大科学仪器设备开发专项“纳米图形化直写与成像检测仪器的研发与应用”项目通过综合验收。

　　项目研发的纳米图形化直写与成像检测仪器，解决了微纳结构光场的可调控技术、图形的高速率写入机制、微纳结构与纳米精度多轴光机系统的设计与可靠性等难题;实现了从纳米光子晶体结构到微米级任意结构的高效率光刻。项目的验收通过，在研发创新与技术进步、推动国产科学仪器进口替代、支撑重大需求与重点工程等方面取得了较好的成就。

　　项目由苏大维格联合上海理工大学、中国科学院上海光学精密机械研究所、中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所、南开大学等6家单位共同完成。该项目总体目标包括攻克纳米干涉细分、纳秒时序下空间调制同步与纳米精度控制、3D导航Z-校正和海量数据处理的关键技术，开发紫外空间光调制、共焦成像检测关键部件和大数据量图形软件，研制出具有自主知识产权的纳米图形化直写与成像检测仪器等。项目主要解决了微纳结构光场的可调控技术、图形的高速率写入机制、微纳结构与纳米精度多轴光机系统的设计与可靠性等难题;面向无掩模光刻，研制了紫外激光直写光刻的关键技术、软件和装备;实现了从纳米光子晶体结构到微米级任意结构的高效率光刻，与目前其他激光直写技术相比，速度更快、效率更高。

　　关于苏大维格

　　公司成立于2001年，致力于微纳关键技术、柔性智能制造、柔性光电子材料的创新应用。经多年发展，苏大维格成为微纳光电材料、新型显示和纳米印刷领域自主创新的典型企业，涉及微纳光学印材、纳米印刷、3D成像材料、平板显示(大尺寸电容触控屏，超薄导光板)、高端智能微纳装备(纳米压印、微纳直写光刻、3D光场打印等)的研发与产业化。